HÜTTINGER SensorLine

Kristallklare Vorteile auf breiter Front für MF-Plasmaprozesse

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Eigenschaften Nutzen
Drastisch reduzierte Prozessunterbrechungszeit Weniger Ausschuss und Defekte
Erhöhte Prozessstabilität und Sputterraten
Kostenersparnis (Kein Filter)
System einfach einstellbar Einfache und schnelle Konfiguration
ARC-Parameter kollektiv einstellbar:
Basis Modus => kollektiv
Expert Modus => detailiert
Einfachere übergreifende Konfiguration. Bei Bedarf die volle Tiefe der Parameter
Drastisch reduzierte Restenergie Weniger Ausschuss und Defekte
Bessere Targetauslastung
Immunität gegenüber Störungen aus dem Plasma Volles Leistungsspektrum auch bei kritischen Prozessen

 

© 2008 TRUMPF, 18.11.2008